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溅射靶材(新型的物理气相镀膜方... - 百度百科

2025年1月7日 尽管我国在半导体集成电路用靶材方面已取得一定进展,部分材料如铝靶、钛靶等已实现国产化,但在某些关键材料如钨、钽以及高纯特种金属及合金溅射靶材方面,仍...
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2025年1月3日 靶材(Target Material)是溅射工艺中的关键材料。其作用是通过高能离子轰击,将靶材原子或分子剥离并转移到衬底表面,形成特定功能的薄膜。(1) 靶材在溅射工艺中的功能 作为...
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2024年10月11日 溅射靶材作为现代薄膜技术的核心材料,其在半导体、显示器、太阳能电池、光学器件以及数据存储等多个高科技领域扮演着至关重要的角色。溅射是一种物理气相沉积(PVD)技术,...
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2024年10月31日 1. 金属溅射靶材在主要应用领域的用途分析 A. 半导体制造 半导体行业对精密度和材料性能要求极高,因此金属溅射靶材在集成电路、芯片互连结构和抗蚀刻层等方面得到了广泛应...
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2023年7月4日 1、ITO靶材 2、硅靶材 3、钼靶材 1、溅射靶材整体行业概况 靶材是溅射薄膜制备的源头材料,又称溅射靶材,特别是高性能溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积(PhysicalVap...
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2024年12月31日 溅射靶材,作为溅射工艺中的核心成分,是高速离子束轰击的目标,为电子薄膜的沉积提供原材料。在电子元器件制造的物理气相沉积过程中,高纯度的溅射靶材发挥...
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2024年12月15日 在当今的半导体制造流程当中,溅射靶材无疑是重中之重的原材料,其质量和纯度对半导体产业链的后续生产质量起着关键性作用。溅射靶材主要应用于物理气相沉积(Physical Vapor D...
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2025年2月24日 一、什么是溅射靶材?简单来说,溅射靶材就是用于物理气相沉积(PVD)技术中的一种关键材料。PVD技术,就像是在微观世界中进行的一场“金属搬运”,利用高能粒子轰击靶材表面...
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